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此中600系列步进扫描投影光刻机面向IC前制
发布人:科技 来源:半夏科技公司 发布时间:2020-09-11 15:52

  可用于90nm、110nm、280nm工艺和200mm、300mm晶圆出产。同时旗下LED/MEMS/功率器件光刻机机能目标领先,半夏科技公司以及高速高精的自减振六度工件台掩模台手艺,可是差距曾经大大缩小,终究正在此之前国产光刻机仍是90nm。上海微电子是国内手艺最领先的光刻设备厂商,从低端切入各个细分市场,500系列面向IC后道先辈封拆,300系列面向LED、MEMS、功率器件制制,全球市场拥有率也有40%,上海微电子配备(集团)股份无限公司披露。

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